Установки глубокого реактивно-ионного травления Tegal™ (DRIE)
Впервые установка для глубокого травления кремния с запатентованной технологией реактора с индуктивно-связанной плазмой (ICP), была выпущена в 1993 году.
Установки Tegal обеспечивают глубокое травление с высокими темпами, удовлетворяя передовым требованиям в области глубокого плазменного травления.
Гамма установок Tegal обеспечивает глубокое плазменное травление для таких материалов, как кремний (Si), КНД-структуры (SOI), стекло-образные материалы. Установки глубокого плазменного травления могут быть сконфигурированы для различных задач, от научно-исследовательских, до крупных промышленных проектов.
Установка глубокого плазмохимического травления Tegal 100 SE/DE™
Tegal 100™ представляет собой компактную, легкую в обслуживании, и экономически эффективную платформу для различных целей использования. Tegal 100™ может быть сконфигурирована в различных модификациях с минимальным техническим вмешательством. Дизайн установки воплотил в себя лучшие достижения из 25-летнего опыта разработок плазменных процессов.
Технологическое превосходство было достигнуто благодаря продолжительному опыту в процессах «сухого» травления кремния. Установка Tegal 100 SE™обеспечивает глубокое травление с высокими темпами, удовлетворяя передовым требованиям производителей и разработчиков микроэлектромеханических систем (МЭМС) в области глубокого плазменного травления.
|
Спецификация
|
Tegal 100 SE™(для Кремния)
|
Tegal 100 DE™(для диэлектриков)
|
|
Рабочая камера
|
ICP Source
|
Высокая плотность > 1011 ионов см3
|
|
Генератор
Рабочее давление
|
ВЧ генератор 3 кВт (13,56 МГц) < 5.10-7 мбар
|
|
Держатель подложки
|
Температурные условия
|
Комнатная температура или
опционально криосистема
|
Комнатная температура
|
|
Размер подложки
|
100, 125, 150, 200 мм возможно 50 и 76 мм на держателе 100 мм
|
|
Генератор НЧ смещения
|
500 Вт / 40-460 кГц
|
-
|
|
Генератор ВЧ смещения
|
300 Вт / 13,56 МГц
|
-
|
|
Система захвата
|
Механическая или электростатическая
|
|
Загрузка
|
Система подачи
|
Вакуумная загрузка одной подложки. Защищенная ручная или автоматичемкая подача подложки.
|
|
Газовая система
|
До 14 газовых линий
|
Могут быть интегрированы в рабочую установку или внешний шкаф
|
|
Откачная система
|
Вакуумная система Adixen
|
Роторно-пластинчатый насос 2063 + Гибридный турбонасос с магнитным подвесом ATH 1600 M
Опция: Безмасляный форвакуумный насос A100
|
|
Управление
|
ПК / PLC
|
интерфейс на базе Windows 2000
|
|
Контроль процесса
|
Опционально
|
Система лазерной интерферометрии
|
|
Характеристики
|
Рабочая установка
|
600 X 1650 X 2100
|
|
Электрический пульт
|
600 X 800 X 2100
|
|
Общий вес
|
1000 кг
|
|
