EndeavorEUV™

EndeavorEUV™ Размер подложки: фотошаблон 6" x 6".

Кластерная установка Tegal EndeavorEUV™ - это современная платформа для усовершенствованного процесса осаждения буферного, поглощающего и антибликового слоя тонких пленок для масок, используемых в прецизионной фотолитографии (EUVL), размером до 150 кв. мм. Ключевыми моментами в изготовлении масок EUVL являются тщательный контроль за качеством пленок и их чистотой, малая концентрация дефектов осаждения. Запатентованный компанией Tegal магнетронный распылительный источник S-Gun™ показывает превосходные результаты на проверенной в производстве установке Tegal Endeavor. Совместимая со стандартом SMIF, транспортная система разработана для перемещения фотошаблонов только за края, а уникальная "sputter-up" конфигурация позволяет проводить процессы без касания лицевой или обратной стороны фотошаблона. Ни одна другая платформа не предлагает такого уникального решения для ультрачистых технологий.

 Endeavor™ и EndeavorEUV™ торговые марки Tegal Corporation